El flúor es un elemento activo requerido para todos los procesos de limpieza seca de cámaras. Nuestros generadores en sitio Generation-F® proveen el más bajo costo por limpieza para la limpieza de cámara seca con herramientas CVD o mejoradas con plasma. El flúor es el reemplazo ideal para los gases que contienen flúor tales como las mezclas NF3, ClF3, SF6 and F2/N2 donde los componentes inactivos pueden comprometer el desempeño de la limpieza.
El gas ultrapuro de flúor enviado de los sistemas Generation-F ofrece el mayor desempeño en limpieza, ganancias en productividad relacionadas con las herramientas CVD, consumo de energía e impacto ambiental reducidos gracias al nulo potencial de calentamiento global.
Esta serie viene en un diseño modular capaz de alcanzar todo el flujo, concentración y volumen requeridos para desde un tonne hasta cientos de tonnes cada año. Por lo tanto, ya sea que opere una herramienta o una fábrica a gran escala, tenemos la solución para usted. Los beneficios y características de los generadores en sitio Generation-F son:
Productividad mejorada gracias a una fuente confiable y segura de flúor de alta pureza
Alternativa sostenible a los gases con alto potencial de efecto invernadero tales como el trifluoruro de nitrógeno (NF3) y el hexafluoruro de azufre (SF6) para limpieza de cámaras CVD
Eliminación de instalaciones de almacenamiento de gran volumen y alta presión
Gran base de instalados.
Hasta el momento se han instalado por todo el mundo más de 30 sistemas Generation-F.
Downloads – On-site Fluorine generation
| Name | Filetype | Size |
| Green Processes for low cost and high productivity |
853 KB | |
| Climate-friendly thin-film PV | 353 KB | |
| Photovoltaics International – Carbon footprint of PECVD chamber cleaning |
664 KB |